超精密 平面研磨・研削ソリューション。
半導体、光電子、精密光学、精密セラミックス、石油採掘、建設機械などの分野で、
最先端の高精度平面加工技術を提供します。
希佑株式会社は、超精密平面加工分野に特化し、研磨・研削装置、加工プロセス、 消耗品を一体で提供する技術ソリューションプロバイダーです。
当社は、LSTD(上海致領半導体科技発展有限公司)の日本における代表事務所として、 LSTDの平面研磨・研削装置を販売し、日本のお客様に対して販売前および販売後の サポートを提供しています。
液圧業界の安全弁から、半導体業界における Si、SiC、GaN、InP、Diamond ウェーハの研磨・抛光、E-chuck、シリコンリング、炭化ケイ素、 セラミックウィンドウなどの研磨ソリューションまで、幅広く対応します。
中国国内における豊富な導入実績と、自社一貫の開発体制を活かし、 日本市場に最適化された高精度加工ソリューションを提供します。
半導体・光学分野を中心に、中国国内で豊富な導入実績を誇ります。
装置設計からプロセス開発まで、すべて自社で一貫対応しています。
最大φ1200mmまでの大口径加工に対応可能な装置ラインアップ。
高い技術対応力とコスト競争力の両立を実現します。
お客様の要求仕様に応じたカスタマイズ対応が可能です。
装置納入後の安定運用まで含めたサポート体制を構築。
半導体ウエハ向け装置から液圧・ダイヤモンド分野まで、 研究開発用途から量産ラインまで幅広く提供します。
Control of parallelism & Ra | Flatness < 2μm | Ra: 0.04 ~ 0.4 | 硬化鋼部品の仕上げ加工 | 銅部品の中程度の加工





Si、Sapphire、SiC、GaN、InP などの半導体ウェーハの研磨装置および自動研磨ライン




単結晶 / 多結晶ダイヤモンドウェーハの研磨:Ra 0.5 ~ 2nm






MFP-700B — 多機能対応のポリッシャー



SL-910R2-SIAR — 高精度片面研磨ソリューション


研磨液、研磨パッド、精密加工用消耗品 | 装置の安定稼働を支える各種部品・専用工具 | 装置特性・加工条件に応じた最適な組み合わせを提案









最大φ1200mmまでの大口径研磨・ポリッシングの代行加工に対応。 4大プロセス方向を網羅したワンストップサービスを提供します。
研削、研磨、機械研磨、化学機械研磨(CMP)の四大プロセスをカバー。 試作開発から量産対応まで、お客様のあらゆるニーズにお応えします。
LSTDの日本における代表事務所として、超精密平面加工ソリューションを提供
高精度平面加工における先端技術,半導体、光電子、精密光学、精密セラミックス、石油採掘、建設機械など関連する産業に応用される。
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